【摘 要】
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金属薄膜由于其独特的电学性质、光学性质、磁性质及催化特性,一直是人们重点研究的课题.有许多方法被用来沉积金属薄膜,例如:物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、电化学
【机 构】
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华东理工大学化学系,上海,200237
【出 处】
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上海市化学化工学会2006年度学术年会
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金属薄膜由于其独特的电学性质、光学性质、磁性质及催化特性,一直是人们重点研究的课题.有许多方法被用来沉积金属薄膜,例如:物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、电化学沉积(ECD)、化学浴沉积(CBD)、层层自组装(LBL)等[2].除此之外,一种新的化学方法即连续离子层吸附与反应(SILAR)也被用来制备无机超薄膜.通过控制SILAR循环的次数,膜的厚度可以得到精确控制,因而SILAR法在半导体超薄膜的构筑方面得到广泛应用.近年来,该方法已扩展到金属超薄膜的制备,如Lindroos等报道了用SILAR法制备Cu薄膜,Wang L等报道了用改进的SILAR法制备的Ag薄膜的电性质.
本文采用化学浴沉积辅助的连续离子层吸附与反应(SILAR)法构筑了Cu超薄膜,并考察了该薄膜的光学及电性质。
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