【摘 要】
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Atmospheric pressure plasma jets (APPJs) usually have low gas temperature, high electron density and low power consumption.Hence, it has a great advantage for the treatment of heat sensitive substrate
【机 构】
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Key Laboratory of Atomic and Molecular Physics & Functional Materials of Gansu province, College of
【出 处】
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第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医学研讨会
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Atmospheric pressure plasma jets (APPJs) usually have low gas temperature, high electron density and low power consumption.Hence, it has a great advantage for the treatment of heat sensitive substrates and it is also served as a depositing tool [1].Carbon nanomaterials are being considered for nano-electronics, sensors, and nano-probes because of their prominent electronic and mechanical properties [2].In the present work, we present a possible method of amorphous carbon thin-film deposition by using an Ar/CH3COCH3 atmospheric pressure plasma jet.
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