第一壁碳材料中的氦和氢同位素滞留特性研究

来源 :第三届全国核技术与应用学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:slim_ning
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  为了研究聚变反应堆中等离子面壁材料中氦和氢同位素的滞留特性,在D2和He混合气氛下,利用射频磁控溅射系统在多晶硅和钨基底上制备了碳共沉积薄膜.离子束分析显示:室温条件下,固定气体总压强2.5Pa,随着He相对气体流量(0.125~0.5)的增加,薄膜沉积速率随之减小但He浓度增加,薄膜中D的浓度在不同的基底上有不同的变化趋势,在硅基底上随着He相对流量的增加而增加(18%~45%),而在钨基底上反之(38%~30%).随着基底温度的增加(150 ℃~500 ℃)D和He浓度变小,同时薄膜的厚度也急剧变小.拉曼光谱分析显示,该碳沉积薄膜为非晶态氘化薄膜,无序程度随着氦含量的增加而加剧.扫描电镜分析显示,相对高的氦的引入,使得薄膜表面产生了气泡和裂纹,这些缺陷导致表面有裂纹和脱落现象呈现.
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