【摘 要】
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原则上,薄膜,表面和界面应力测量可以通过X射线衍射方法进行测量,但对于薄膜材料,传统的X射线应力分析方法存在严重的不足,如膜厚很薄,衍射强度低,基体的衍射峰干扰严重,此外
【机 构】
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索尔福特大学,索尔福特,M54WT,英国
【出 处】
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第十五届冶金及材料分析测试学术报告会(CCATM2010)
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原则上,薄膜,表面和界面应力测量可以通过X射线衍射方法进行测量,但对于薄膜材料,传统的X射线应力分析方法存在严重的不足,如膜厚很薄,衍射强度低,基体的衍射峰干扰严重,此外,沉积膜大多具有择优取向(织构),微观应变的不均匀性所导致的方向相关的晶粒互作用不可忽略,其往往导致宏观弹性各向异性,其三,在薄膜厚度内测得的是应力平均值,难以获得膜/基体界面处的应力的状态,尤其是纳米膜,界面的应力是不可忽略的。本文将以有关薄膜和表面区x射线应力分析的专题评述口为蓝本,解读有关依赖于试样和测量条件的分析方法和测量策略。本文将推荐若干实用的测试方法,对于无织构和宏观弹性各向同性薄膜试样,建议采用掠入射,多衍射线的薄膜应力分析方法,当用小入射角时,常规的sin2ψ法可以使用,应变～sin2ψ的直线斜率可以用于获得薄膜应力值;对于有织构试样,材料呈宏观弹性各向异性,建议采用晶体群方法。
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