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孪生靶溅射镀膜是近年来反应溅射镀膜技术中的新进展。高频孪生靶溅射工艺不仅可以提高镀层的性能，而且还能大大提高镀膜的速度，节约能源，尤其是在光学镀膜技术领域中更为重要。高频ＰＷＭ电源则是实施孪生靶溅射镀膜的关键设备。该文对该电源的工作原理、结构以及性能特点进行了论述。
孪生靶溅射镀膜用高频PWM电源
【摘 要】
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孪生靶溅射镀膜是近年来反应溅射镀膜技术中的新进展。高频孪生靶溅射工艺不仅可以提高镀层的性能，而且还能大大提高镀膜的速度，节约能源，尤其是在光学镀膜技术领域中更为重要。
【机 构】
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大学自动化系仪器厂(集团)
【出 处】
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全国薄膜学术讨论会
【发表日期】
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1999年10期
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