【摘 要】
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背景：对于复合树脂而言,用硅烷偶联剂(KH-570)对其无机填料进行表面处理前后,其挠曲强度有所变化,弯曲断面也不同.目的：研究KH-570对新型光固化纳米经基磷灰石(Nano-hydrox
【机 构】
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聊城市人民医院牙体牙髓科,山东聊城,252000
【出 处】
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中华口腔医学会全科口腔医学专业委员会全国第三次全科口腔医学学术会议
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背景：对于复合树脂而言,用硅烷偶联剂(KH-570)对其无机填料进行表面处理前后,其挠曲强度有所变化,弯曲断面也不同.目的：研究KH-570对新型光固化纳米经基磷灰石(Nano-hydroxyapatite,NHA)复合材料的挠曲强度和弯曲断面的影响.方法：分别用未经和经过KH-570进行表面处理的NHA与配制好的有机基质混合,制备成光固化纳米羟基磷灰石复合材料,分为A、B两组,卡瑞斯玛作为对照记为C组,每组制备5个试件并测试其挠曲强度并用扫描电镜观察其断面.结果及结论：3组试件的挠曲强度分别是(56.02±1.87)Mpa、(63.87±1.49)Mpa、(64.35±2.67)Mpa,经统计学分析,对照组C组与B组之间没有显著性差异,而与A组有显著性差异.KH-570处理组断裂面的扫描电镜照片显示NHA与有机基质的结合面较好.
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