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本文详细叙述了一套超高真空镀膜系统用于低压等离子体化学气相沉积的研制;详细讨论采用低压等离子体化学气相沉积法来制备C<,x>H<,1-x>薄膜的FT-IR及XPS谱,这些谱表明,在样品中,不仅存在C-C单键,同时还存在相当数量的C=C双键;新鲜制备的C<,x>H<,1-x>薄膜表面存在大量的悬挂键,样品经过H<+>原位处理较长时间之后,表面存在的悬挂键基本被饱和.