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文中主要介绍了采用电化学刻蚀方法制作精细光栅金属模版的原理及方法。在电化学金属阳极溶解原理的基础上，将电化学刻蚀技术与电镀技术相结合，有效解决了电化学刻蚀过程中由于金属晶粒较大、晶粒不均匀等因素所带来的刻蚀速率不均、模版表面光洁度差等问题。实验中通过调节电解液的浓度和温度、电流密度、电极的位置、刻蚀时间的长短等参数，在金属镍块上制作出表面粗糙度(Ra)小于 5nm，深度达到 1.3μm，光栅周期为 32μm 的金属光栅模版。