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硅团簇束流淀积的分形生长
硅团簇束流淀积的分形生长
来源 :第九届全国原子与分子物理学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yong1123
【摘 要】
:
利用低能中性团簇束流淀积(LECBD)方法制备硅团簇薄膜,观察到Si团簇特殊的分形生长现象,并对此非平衡动力学过程作初步的探讨。
【作 者】
:
陈平平
王广厚
【机 构】
:
大学固体徽结构国家重点实验室(南京)
【出 处】
:
第九届全国原子与分子物理学术会议
【发表日期】
:
1998年9期
【关键词】
:
Si团蔟
LECBD
分形生长
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利用低能中性团簇束流淀积(LECBD)方法制备硅团簇薄膜,观察到Si团簇特殊的分形生长现象,并对此非平衡动力学过程作初步的探讨。
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