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牺牲层法是制备自支持膜的一种常用方法，但是能在近红外光下降解的牺牲层尚未见报道。我们制备了一种能在980 nm 近红外光下降解的层层组装膜，这种膜由含有带正电的邻硝基苄脂基团的季铵盐聚合物(PNBA-TEA)，聚苯乙烯磺酸钠(PSS)、支化聚乙烯基亚胺(bPEI)和带负电的稀土上转换纳米粒子(UCNPs)，构成结构为[(PNBA-TEA/PSS)*2/(bPEI/UCNPs)*3]*2的聚电解质复合物膜。