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共溅射条件对溅射后硒化法制备的铜铟镓硒薄膜的影响

来源 :2015广东材料发展论坛——新材料与先进制造大会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sunku

【作 者】

：

吴兆 洪瑞江 

【机 构】

：

中山大学物理科学与工程技术学院太阳能系统研究所,广东广州510006

【出 处】

：

2015广东材料发展论坛——新材料与先进制造大会

【发表日期】

：

2015年期

【关键词】

：

溅射条件 后硒化 法制备 铜铟镓硒 薄膜 

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