走向工业应用的离子辅助光学镀膜技术

• 作 者: 尤大伟[1] 李晓谦[1] 王怡德[2] 林永昌[3]
• 机 构: 中国科学院空间科学应用研究中心(北京)北京仪器厂北京理工大学
• 出 处: '99全国荷电粒子源粒子束学术会议
• 发表日期: 1999年10期
• 关键词: 等离子体 离子辅助镀膜 无栅等离子源 光学镀膜

该文介绍一种新型等离子体输助镀膜技术，使用该技术可使高质量的光学镀膜直向大量生产这一前景成为现实。该技术核心是无栅等离子体源(GIS)。GIS可以生产大面积的均匀等离子体，面积大于1000mm直径。等离子体离子流强度高达0.5ma/cm<2>，离子流能量20-200eV，并能激活反应气体O<,2>及蒸发原子，用GIS进行的离子体离子辅助镀膜这一技术现正用于生产高质量的光学薄膜。