利用XRD研究Mg掺杂的InN的快速退火特性

来源 :第四届全国信息光学与光子器件学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cx313
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  研究了不同的快速退火(RTA)温度对Mg 掺杂的Inn 材料的影响。根据马赛克微晶模型,利用X 射线衍射技术(XRD),对样品的对称面和非对称面作ω扫描,并且通过倒异空间图(RSM)扫描,拟合得到了刃位错与螺位错密度,并且根据在不同快速退火温度条件下位错密度的比较,同时结合迁移率的测量结果,发现快速退火温度采用400 ℃能有效的提高晶体的质量。原因在于快速退火能有效的激活Mg原子活性,降低材料中的载流子浓度,同时快速退火采用的氮气气氛能补偿部分起施主作用的氮空位,降低材料中载流子浓度的同时也降低了缺陷。同时,(002)面的摇摆曲线半峰宽也很好的验证了我们的结果。
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