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拓扑绝缘体Bi2Te3和Bi2Se3纳米片输运特性研究
【机 构】
:
中国科学院金属研究所,沈阳,110016 美国凯斯西储大学物理系,美国,10900
【出 处】
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第十五届全国磁学和磁性材料会议
【发表日期】
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2013年11期
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