【摘 要】
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随着激光系统向更高平均功率和更高峰值功率的发展,对光学薄膜、晶体等光学材料的抗激光损伤特性提出了越来越高的要求。相比于一些已有的对800nm激光脉冲和材料相互作用
【机 构】
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中国科学院大学强场激光物理国家重点实验室,中国科学院上海光学精密机械研究所中科院强激光材料重点实验室,中国科学院上海光学精密机械研究所
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随着激光系统向更高平均功率和更高峰值功率的发展,对光学薄膜、晶体等光学材料的抗激光损伤特性提出了越来越高的要求。相比于一些已有的对800nm激光脉冲和材料相互作用的研究,400nm波段只有少量的研究。然而,400nm激光脉冲更容易将光学材料进行电离,其在材料中电离化速率相比于800nm会提高好几个量级,这使得该工作波段下激光诱导损伤很容易发生,这也使得研究400nm波段下激光脉冲和材料的作用显得十分必要。在紫外光波段,Al2O3是最重要的几种氧化物薄膜材料之一。
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