铜和1,10-邻菲罗啉配合物在电化学修饰玻碳电极表面的伏安行为

来源 :第八届全国电分析化学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hejiankimi

【摘要】

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采用循环扫描电势法,在1mol/L HSO溶液中,-500~1860mV的电位区间内,以100mV/s的扫描速率循环扫描,得到电化学修饰玻碳电极(MGC).并用循环伏安法(CA)和计时库仑法(CC)对其进行了研究.同时研究了[Cu(Phen)]在MGC表面的伏安行为.

【作者】

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卢小泉周喜斌西北师范大学地理与环境科学院(兰州) 康敬万王晓强

【机构】

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西北师范大学化学化工学院

【出处】

：

第八届全国电分析化学学术会议

【发表日期】

：

2002年4期

【关键词】

：

伏安法修饰电极铜配合物电化学分析玻碳电极

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采用循环扫描电势法,在1mol/L H<,2>SO<,4>溶液中,-500~1860mV的电位区间内,以100mV/s的扫描速率循环扫描,得到电化学修饰玻碳电极(MGC).并用循环伏安法(CA)和计时库仑法(CC)对其进行了研究.同时研究了[Cu(Phen)<,2>]<2+>在MGC表面的伏安行为.

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