【摘 要】
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采用电感耦合等离子体原子发射光谱对高温合金中的痕量硅进行测定.对高温合金样品的消解,标准曲线的配制,分析谱线的选择,基体干扰的消除进行了较为深入的探讨.对普通的高温
【机 构】
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采用电感耦合等离子体原子发射光谱对高温合金中的痕量硅进行测定.对高温合金样品的消解,标准曲线的配制,分析谱线的选择,基体干扰的消除进行了较为深入的探讨.对普通的高温合金样品,使用比例为5:1 的盐酸与硝酸进行消解,而对于铌、钽等元素含量较高的高温合金样品,还需使用氢氟酸进行消解.基体干扰通过使用高温合金主成分打底配制标准曲线的方式进行消除.考察并确定了在紫外区常见干扰元素如硼、磷、硫等对硅元素的两条谱线184.685 和185.005 测定无明显干扰,但硅元素的185.005 谱线受到钽元素的重叠干扰,而184.685 谱线峰型不佳.实验表明,通过绘制钽的干扰曲线并计算干扰校正系数,进行数学校正后可得到准确的测定结果.硅元素两条谱线184.685 和185.005 的加标回收率在87％～107％之间,相对标准偏差小于5％.
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