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碱性硅酸盐溶液中，AZ91D 镁合金在不同的频比（1 ，5 ，25 ）下进行微弧氧化成膜。频比 FR 是正脉冲频率与负脉冲频率的比值，频比的变化改变了反应过程中脉冲的分布及持续时间，进而影响MAO 过程施加的能量，导致生成的氧化膜厚度，形貌和均匀度随频比发生显著变化。频比为1 时生成的MAO 膜更均匀，孔隙率小且膜厚；随频比的增加，得到的氧化膜变得更加多孔，减薄且均匀度增加；频比的增加导致两个正脉冲间的间隔减小，正周期熔融氧化物不能充分固化，导致形成更多的放电通道，使得生成的MAO 膜微孔及裂纹增加；同时阴极脉冲的延长致使未充分固化的氧化物不仅更多的被溶解，而且被阴极反应产生的气体带走量也增加，在氧化膜表面形成许多小坑，导致氧化减薄且粗糙度增加。频比的变化对MAO 膜内部结构影响不大，膜层的保护性受频比的影响较小。