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4H-SIC阳极凹槽肖特基二极管耐压与凹槽深度的关系
4H-SIC阳极凹槽肖特基二极管耐压与凹槽深度的关系
来源 :2009四川省电子学会半导体与集成技术专委会学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zdx_comeon
【摘 要】
:
本文对一种阳极凹槽肖特基二极管进行了研究。器件反偏时,阳极凹槽引入的横向电场可以加快漂移区耗尽,降低阳极电场,从而可以提高器件的击穿电压。通过器件仿真,从耐压的角度,对阳
【作 者】
:
蒋辉
叶毅
罗小蓉
【机 构】
:
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 成都 610054
【出 处】
:
2009四川省电子学会半导体与集成技术专委会学术年会
【发表日期】
:
2009年期
【关键词】
:
阳极电场
凹槽
肖特基二极管
耐压
击穿电压
器件仿真
横向电场
槽深
漂移区
反偏
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本文对一种阳极凹槽肖特基二极管进行了研究。器件反偏时,阳极凹槽引入的横向电场可以加快漂移区耗尽,降低阳极电场,从而可以提高器件的击穿电压。通过器件仿真,从耐压的角度,对阳极凹槽深度进行了优化。当阳极凹槽深度为0.7μm时,阳极凹槽肖特基二极管能够获得最大击穿电压为1173V。
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