层状类钙钛矿结构铁电薄膜的光学性质研究

• 作 者: 杨平雄;褚君浩;
• 机 构: 科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室(上海)
• 出 处: 全国化合物半导体、微波器件和光电器件学术会议
• 发表日期: 1998年期
• 关键词: 层状类钙钛矿 铁电薄膜 光学性质

采用ArF准分子脉冲激光沉积法（PLD），在石英玻璃衬底上制备出均匀透明的srBi2Ta2O9铁电薄膜。紫外透射光谱研究表明在波长为370～900nm范围薄膜具有很好的透光性，在300nm处有一陡峭的吸收边，由半导体理论计算得到SBT薄膜的禁带宽度为3.25eV。室温红外富里时变换光谱测试显示SBT薄膜在室温下对中红外光表现出良好的吸收，这种薄膜有可能在室温红外焦平面列阵中得到应用。