三价铬硫酸盐镀液快速电沉积研究

• 作 者: 康振华[1]曾振欧[1]汪启桥[1]赵国鹏[2]
• 机 构: 华南理工大学化学与化工学院,广东广州 510640
• 出 处: 全国镀膜与表面精饰低碳技术论坛
• 发表日期: 2011年期

　　三价铬镀铬是替代六价铬镀铬最为理想的清洁生产工艺。实验研究了电流密度、电镀时间和不同基体金属对三价铬硫酸盐镀液快速镀铬的影响。结果表明，采用三价铬硫酸盐镀液在铜、镍和低碳钢基体上进行快速镀铬可以得到表面连续致密、结构为非晶态的铬镀层，但在铜基体上的镀速比在镍和低碳钢基体上快很多。在电流密度为10 A／dm2下电镀10 s,在铜基体上可得到O.40 μm以上的铬镀层，平均镀速可达2.50μm／min；但在镍和低碳钢基体上只能得到0.10μm的铬镀层，平均镀速为0.50μm／min。快速镀铬的电流效率与所采用的电流密度有关，在电流密度为10～12 A／dm2时可达25.0％以上。三价铬硫酸盐镀液长时间连续快速镀铬时镀液体积明显减少、pH值降低。