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该文介绍了国产ＩＴＯ靶材磁控溅射制备ＩＴＯ膜的工艺实验研究。实验结果表明，国产ＩＴＯ靶材具有良好的工艺稳定性和重现性，在优选镀膜工艺参数条件下，获得了性能优良的ＩＴＯ透明导电膜，并且在室温基片上也获得了满意的结果。这些结果与目前国外同类产品的研究结果相吻合。
国产ITO靶的镀膜工艺研究
【摘 要】
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该文介绍了国产ＩＴＯ靶材磁控溅射制备ＩＴＯ膜的工艺实验研究。实验结果表明，国产ＩＴＯ靶材具有良好的工艺稳定性和重现性，在优选镀膜工艺参数条件下，获得了性能优良的ＩＴＯ透明导电膜，并且在室温基片
【机 构】
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科技大学(长沙)
【出 处】
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中国真空学会第五届学术会议
【发表日期】
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1998年期
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