高子选择性漆膜的制备和性能研究(Ⅰ)——阴、阳离子选择性漆膜的I-V特性

• 作 者: 王周成 张瀛洲
• 机 构: 科学院福建物质结构研究所二部(厦门),厦门大学固体表面物理化学国
• 出 处: 第三届中国功能材料及其应用学术会议
• 发表日期: 1998年期
• 关键词: 离子选择性漆膜 膜的制备 性能研究 传输行为 线性关系 外加电位 方法研究 掺杂改性 电化学 特性 实验 清漆 理论

通过对清漆掺杂改性制奋了离子选择性漆膜，用电化学方法研究了阴、阳子选择性漆膜的离子传输行为I-V特性。对于阴离子选择性和阳离子选择在漆膜，离子在膜中的传输行为不受外加电位方向的影响，I-V之间存在线性关系，并从理论上对实验结果作了进一步阐述。