闪电探测用超窄带通滤光片的研制

• 作 者: 王少伟 陈效双 陆卫 王利 吴永刚 王占山
• 机 构: 中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,200083
• 出 处: 中国光学学会2004年学术大会
• 发表日期: 2004年期
• 关键词: 闪电探测 带通滤光片 透过率 半峰宽 随机涨落 真空镀膜机 统计结果 设计 膜系 介质材料 特征峰 层厚度 性能 显示 位置 区域 膜厚 概念

本文根据闪电探测的需要，利用Anderson局域的概念，以SiO2和Ta2O5为介质材料，设计出了带通位置为闪电特征峰（777.4nm）的超窄带通滤光片。该滤光片的半峰宽、透过率和高反区域分别为97﹪、0.7nm和670~950nm。统计结果显示，该滤光片的峰位、半峰宽和透过率受每层膜厚随机涨落的影响较小，当膜系每层厚度出现±2.5％的随机涨落时，滤光片依然保持较好的性能。通过ZZSX-800 型真空镀膜机对所设计的膜系进行实际镀制，获得了半峰宽为1.9nm、透过率为73.6％的超窄带通滤光片。