【摘 要】
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采用了ZnO修饰载体表面并诱导形成的高稳定ZIF-8 膜,测试了其对单组份和双组份气体的常温渗透和高温渗透性能.结果表明,以ZnO为过渡缓冲层而诱导合成的ZIF-8 膜,具有很好
【机 构】
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大连理工大学化工学院,精细化工国家重点实验室,辽宁大连,116024
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采用了ZnO修饰载体表面并诱导形成的高稳定ZIF-8 膜,测试了其对单组份和双组份气体的常温渗透和高温渗透性能.结果表明,以ZnO为过渡缓冲层而诱导合成的ZIF-8 膜,具有很好的氢气选透性,而且可以在200℃下稳定运行,H2/CH4理想分离系数接近10,具有很好的筛分功能.H2/CO2的理想分离系数随温度的升高而明显增大,而H2/CH4理想分离系数则基本不变,反映了膜的完整性.
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