【摘 要】
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正弦调制靶是研究惯性约束聚变(ICF)中流体力学不稳定性的重要实验用靶，随着物理诊断技术的发展和精密化分解实验研究的深入，相关调制靶的靶型结构亦趋于多元化，已由原来简单的单介质平面调制靶拓展到双介质复合调制靶、乃至多介质柱状激波管。目前，国外基于各类型调制靶而开展的流体力学不稳定性实验研究已有较多报道，但其中关于靶的具体制备方法却鲜有公开。国内，在单介质平面调制靶方面开展的研究工作较多，其制备技术
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900
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正弦调制靶是研究惯性约束聚变(ICF)中流体力学不稳定性的重要实验用靶，随着物理诊断技术的发展和精密化分解实验研究的深入，相关调制靶的靶型结构亦趋于多元化，已由原来简单的单介质平面调制靶拓展到双介质复合调制靶、乃至多介质柱状激波管。目前，国外基于各类型调制靶而开展的流体力学不稳定性实验研究已有较多报道，但其中关于靶的具体制备方法却鲜有公开。国内，在单介质平面调制靶方面开展的研究工作较多，其制备技术已较为成熟；但是，在双介质复合调制靶制备上的研究进展较少，尤其针对国外已开展过相关实验研究的双介质靶型-“CH薄膜-低密度CH泡沫调制靶”尚少有研究跟进，其制备工艺亟待确立。本文在前期研究基础上，进一步探索了用于获取薄膜-泡沫双介质调制靶样品的两种制备工艺(1)浇注复合。在聚苯乙烯(PS)调制薄膜的图纹表面浇注间苯二酚-甲醛(RF)溶胶，经进一步凝胶化和超临界CO2萃取制备PS-RF双介质调制靶样品；(2)热压复合。在一定温度和压力下将PS调制薄膜的图纹表面和聚4-甲基-1-戊烯(PMP)泡沫进行界面的热压复合成型，制备PS-PMP双介质调制靶样品。采用台阶轮廓仪、光学显微镜和扫描电子显微镜等对上述两种复合样品进行界面形貌观察和相关参数测量，结果表明：浇注和热压两种复合工艺均较为成功地制备得到了复合界面结合紧密、调制图纹清晰的CH薄膜-低密度泡沫双介质调制靶样品；在两种复合工艺制得的样品中，可实现调制薄膜的厚度(10～25μm)可调，泡沫的密度(50～250mg/cm3)可控。
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