基于微机X荧光磁盘涂层测厚仪

• 作 者: 林金锌;王裕政;江立人;
• 机 构: 中国科学院上海原子核研究所
• 出 处: 全国核电子学与核探测器学术会议
• 发表日期: 1984年期
• 关键词: 厚度仪 荧光X射线分析器 磁盘 磁层 微处理机 测量方法 程序设计 TOF计数器

基于微机X荧光磁盘涂层测厚仪，由激发—探测装置和电子测量仪器两部分组成。激发—探测装置包括放射源、探测器和准直器，前置放大器。电子仪器包括高压电源、模拟信号处理电路、微机接口和微机。微机又包括键盘KB、数字显示D和打印机P等。该仪器对磁盘磁层质量厚度的测量范围是50—500μg/cm，当质量厚度为100μg/cm时,其偏差小于5μg/cm。本文描述了仪器组成、测量原理、程序设计、磁盘磁层测量结果。（王太和摘）