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在载氢光纤上利用振幅掩模板来制作长周期光纤光栅,由于掩模板的固定和氢气的原因造成光纤光栅的不稳定性给制作符号要求的光纤光栅造成很大的困难,在长周期光纤光栅的制作过程中灵活地运用均匀曝光的技术,对于利用同一块掩模板制作出符合不同要求,有着不同透射谱的光栅,并提高其退火时的热稳定性有着很大的帮助.