论文部分内容阅读
本文按正交法设计了18个制备有机蒙脱石的实验，优化了制备最大层间距的蒙脱石的最佳工艺条件，并对其进行了表征；XRD结果表明蒙脱石层间距由1.44nm增加到3.98nm，而且由回归分析知当插层剂含量<70％时，制备的蒙脱石层间距与插层剂含量存在线性关系即：蒙脱石层间距=1.771+2.828x插层剂含量，其它因素影响程度很小。首次采用层间合成单体一原位聚合法(简称单体合成法)制备不同层间踵蒙脱石/不饱和聚酯复合材料。通过对复合材料力学测试表明层间距(3.98nm)最大的蒙脱石制得的复合材料各项性能最好，拉伸强度提高了4％，弯曲强度提高了60％，冲击强度提高了76％，应用前景看好.