【摘 要】
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硅薄膜太阳电池由于耗材少、原材料丰富、便于大面积沉积在降低光伏应用成本方面具有独特优势.但与其他各类太阳电池相比,其转换效率仍旧偏低,主要原因之一就是吸收层较薄而
【机 构】
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中国地质大学(北京)数理学院 北京市海淀区学垸路29号 100083
【出 处】
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第一届新型太阳能电池暨钙钛矿太阳能电池学术研讨会
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硅薄膜太阳电池由于耗材少、原材料丰富、便于大面积沉积在降低光伏应用成本方面具有独特优势.但与其他各类太阳电池相比,其转换效率仍旧偏低,主要原因之一就是吸收层较薄而导致的光学损失.因此发展有效的陷光技术对提高硅薄膜太阳能电池的效率是至关重要的.近年来,用绒面结构的FTO、ITO、AZO等前电极增强光的散射是陷光技术领域的研究热点.在各种透明导电薄膜中,AZO薄膜由于无毒、廉价、在氢等离子体中稳定性高等优点,展现出巨大的发展潜力,有望取代ITO和FTO.为了得到具有表面织构的AZO薄膜,目前通用的方法是湿法刻蚀和干法刻蚀.湿法刻蚀需要酸或碱,有一定的污染且重复性差,而干法刻蚀则成本较高.所以,另辟廉价、无污染、易调控的表面织构制备途径已势在必行.本文利用磁控溅射技术,通过调控等离子体,在制备AZO薄膜的过程中,形成自然织构的表面形貌.具体工作如下:以较高的溅射功率在玻璃衬底上制备了压强系列和温度系列两组AZO薄膜,并对其微结构、表面形貌、电学性能和透光率进行了表征.结果表明在较高溅射功率下制备的薄膜表面均带有自然织构.在其他条件相同的情况下,随着压强的增大,薄膜表面的粗糙度增加,沉积速率下降,透光率增加,电阻率先减小后增大;随着温度的升高,电阻率降低,粗糙度增大.
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