PECVD高阻隔膜镀膜设备的研制

来源 :2014年广东省真空学会学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:keliok
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结合PECVD成膜及卷绕设备的制作及控制技术,研发一种在柔性材料表面沉积硅膜,达到有效阻隔氧气、水汽效果的镀膜设备.设备采用多区域放电及多辊卷绕,实现高速镀膜.实测表明,生产的阻隔膜完全满足食品包装的要求,室体整体加工,确保了卷绕系统各传动辊的平行及精度。为最终收膜质量断定了基础,选用国际优质的高温液体质量流量计,确保HMDSO不会对充气毛细管造成堵塞,保证了充气的稳定,合适的中频放电及放电区域的合理设计,确保放电稳定,放电区气氛均匀,膜表面光洁,氧化硅膜膜厚一致,多电机同步运动控制技术,使一次走膜可进行多区域放电,沉积速率高,产量大。
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