新型水处理剂低膦水解聚马来酸酐的合成及其性能

• 作 者: 孙清 王风贺 石晓坚 陈俏波 王力友
• 机 构: 江苏常州曙光化工厂，江苏常州213016南京师范大学动力工程学院水处理研究所，江苏南京210042
• 出 处: 第十五届全国缓蚀剂学术会议、2008全国防锈技术交流年会联合大会
• 发表日期: 2008年7期
• 关键词: 低膦环保型 水解聚马来酸酐 水处理剂 水溶液聚合法 缓蚀性能 阻垢性能

以马来酸酐(MA)、双氧水(H2O2)、次磷酸盐为原料，在催化剂的作用下，采用水溶液聚合法合成出低膦水解聚马来酸酐(HPMA)，通过实验确定了合成低膦HPMA的最佳工艺条件，得到固含量为50％的浅黄色透明液体——低膦(舍磷3％)水解聚马来酸酐。对所合成的新型水处理药剂的缓蚀阻垢性能进行了研究，结果表明：低膦HPMA具有良好的缓蚀、阻垢性能，阻垢率和缓蚀率分别为33.9％和39.38％。