不同溶剂体系对间位芳纶静电纺丝的影响

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  本文以DMAc/LiCl、DMF/LiCl、NMP/LiCl三种不同的溶剂体系来溶解间位芳纶,经过高压静电纺丝后得到间位芳纶膜。研究间位芳纶在三种溶剂体系中的溶解性能,对不同溶剂体系下纺丝得到的芳纶膜进行sEM表征、透气性能和力学性能测试。结果表明:NMP/Licl溶剂体系电纺的芳纶膜外观形态最为理想,透气率和耐破度最高,DMF/LiCl溶剂体系电纺的芳纶膜效果最差;DMAc/LiCl、NMP/Licl溶剂体系电纺得到的纳米膜的拉伸应变、拉伸应力和裂断长都比较高。
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