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方酸菁是一类光化学性能优异、吸收强度大、光热稳定性好的染料， 许多方酸 菁在近红外区有强烈的荧光发射，在该范围内生物分子自身荧光较弱，可避免背景 干扰而获得较高的分析灵敏度，适用于生物分析，包括免疫分析、DNA 测序等生命 科学的前沿领域[1]，吲哚方酸菁（Ind-SQ）是一种具有强的紫外吸收与强的荧光发 射的方酸菁染料吲哚衍生物，在生物以及离子识别方面得到广泛的应用，但是作 为一种染料同样给环境造成很大的污染，如颜色污染和COD的升高， Zhao 等[2] 报道了TiO2辅助光降解的方法，电化学降解[3]则鲜有报道。本文通过循环伏安法 （CV）以及方波伏安法（DPV）测定吲哚方酸菁的电化学行为，并用紫外可见光 谱对恒电位电解的产物进行分析，观察了不同的正负电解电位，不同电解时间， 以及O2 与H2O2 对电解的影响，通过紫外可见吸收光谱的变化，分析和推测了吲哚方酸菁在氧化已及还原条件下的电解机理。