高含量的取代型N掺杂TiO2薄膜的制备、表征及其光催化性能研究

• 作 者: 江旭东 王永钱 潘春旭
• 机 构: 武汉大学物理科学与技术学院,武汉 430072;武汉大学教育部声光材料与器件重点实验室,武汉 430072
• 出 处: 第十五届全国催化学术会议
• 发表日期: 2010年8期
• 关键词: 氮掺杂 离子渗氮 微弧氧化 二氧化钛

　　本文介绍了一种全新有效的制备高含量取代型氮掺杂TiO2(TiO2-xNx)光催化薄膜的方法,即首先将Ti基体进行离子渗氮处理,再用微弧氧化(micro-arc oxidation,MAO)技术,在其表面成长出TiO2-xNx薄膜.利用传统的方法制备的TiO2-xNx粉末或薄膜,其氮含量(x)通常小于0.04,而本方法制备的TiO2-xNx薄膜中氮含量(x)高达0.11.同时,相对与同样方法制备的未掺杂的TiO2薄膜,该TiO2-xNx薄膜的紫外-可见漫反射谱显示了明显的红移,禁带宽度减小到2.6 eV,具有更高的光生载流子浓度和更强的光催化活性.