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论文提出一种简单、可重复的飞秒激光大面积、均匀化微纳结构加工方法，即在半导体或电介质表面镀10-20nm的金薄膜，采用飞秒激光在镀金材料表面微加工可获得大面积、均匀化微纳结构。以硅为例，激光诱导镀金硅表面微纳结构的缺陷、交连、重铸等显著减少，线与线间过渡均匀连贯，可获得大面积、均匀化表面微纳结构。金薄膜的热电子扩散增加了 界面载流子密度，增加了产生雪崩电离的种子电子和界面电-声耦合。飞秒激光辐照产生的高且均匀的电子密度分布进一步减小了材料缺陷和能量波动的影响，从而使表面微纳结构在大面积内均匀稳定。所提新方法有望应用于增强材料吸收、增强拉曼散射、超疏水等功能性表面加工。