论文部分内容阅读
宽禁带半导体材料-氮化铝(AlN)晶体具有超宽的禁带宽度(6.2eV)、极高的击穿场强、极高的热导率、良好的光学和力学等性质,同时,AlN 与AlGaN 属同族材料,两者的晶格失配最大值仅为2.4%,且热膨胀系数几乎相同,故以AlN 单晶作为衬底可以极大地改善AlGaN 器件的性能.