钕铁硼永磁体电沉积Ni/Al<,2>O<,3>复合镀层的研究

• 作 者: 张惠 宋影伟 杨恒修 宋振纶
• 机 构: 中国科学院宁波材料所,浙江,宁波,315201
• 出 处: 第十四次全国电化学会议
• 发表日期: 2007年期
• 关键词: 钕铁硼永磁体 电沉积 钕铁硼永磁材料 氧化还原电位 耐蚀性能 磁性能 应用 稀土元素 关键技术 工业领域 腐蚀过程 产品制造 性价比 开发 标准

钕铁硼永磁材料自1983年问世以来,以其优异的磁性能、较高的性价比,迅速应用于各个工业领域。但是,由于稀土元素钕标准氧化还原电位-2.431V,极易被氧化。加速了其腐蚀过程,从而严重的影响了磁体的磁性能。因此,NdFeB永磁体存在着耐蚀性能差的缺点,严重的影响着它在各方面的应用。提高其耐蚀性已成为NdFeB永磁材料及产品制造与开发中的关键技术之一。