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本文利用电磁射线原理,分析了屏蔽暗室工作区残余电平随频率、发射天线方向性和位置、暗室尺寸的变化规律,对暗室的设计及其性能预估有一定指导作用.
从工作区残余电平研究屏蔽暗室的设计
【摘 要】
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本文利用电磁射线原理,分析了屏蔽暗室工作区残余电平随频率、发射天线方向性和位置、暗室尺寸的变化规律,对暗室的设计及其性能预估有一定指导作用.
【机 构】
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北京航空航天大学电子工程系205教研室
【出 处】
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全国电磁兼容学术会议
【发表日期】
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2001年期
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