SiF2光谱常数和非谐力场的理论研究

来源 :第十八届全国原子与分子物理学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：WAYA123456

【摘要】

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SiF2是一个不稳定的三原子分子,具有C2v对称性,是刻蚀过程和含Si薄膜制作过程的重要中间体,从发现就引起了人们广泛的关注.精确的光谱信息对于理解SiF2分子的结构和化学性质

【作者】

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李靖王美山杨传路马美仲

【机构】

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鲁东大学物理与光电工程学院,山东,烟台,264025

【出处】

：

第十八届全国原子与分子物理学术会议

【发表日期】

：

2015年8期

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SiF2是一个不稳定的三原子分子,具有C2v对称性,是刻蚀过程和含Si薄膜制作过程的重要中间体,从发现就引起了人们广泛的关注.精确的光谱信息对于理解SiF2分子的结构和化学性质以及对SiF2参与的化学反应的监测非常重要.我们用MP2,B3LYP和B3PW91方法以及cc-pVQZ和cc-pVTZ基组计算了SiF2的光谱常数.

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