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  5. 电化学腐蚀工艺与多孔硅的应用

电化学腐蚀工艺与多孔硅的应用

来源 :第五届全国微米/纳米技术学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：babala_chen
【摘 要】
：
介绍了多孔硅的形成机理和用电化学腐蚀制备多孔硅的几种方法.由于多孔硅的多孔特性,气体可以很容易扩散进去,减少了硅的氧化时间.作为微机械加工的牺牲层材料,多孔硅在微加
【作 者】
：
魏京信 张文栋 董海峰 李永红 
【机 构】
：
华北工学院(太原)
【出 处】
：
第五届全国微米/纳米技术学术会议
【发表日期】
：
2001年10期
【关键词】
：
MEMS 多孔硅 电化学腐蚀 微型镜 微机械电子系统 
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介绍了多孔硅的形成机理和用电化学腐蚀制备多孔硅的几种方法.由于多孔硅的多孔特性,气体可以很容易扩散进去,减少了硅的氧化时间.作为微机械加工的牺牲层材料,多孔硅在微加工中的应用受到重视.文中详细介绍了氧化多孔硅作为牺牲层材料的制作方法,以及应用多孔硅技术制造的MEMS微型镜.文中还介绍了一种新型的用电化学腐蚀工艺制作的光学系统.
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