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来源 :第九届全国半导体集成电路、中国有色金属学会硅材料学术会议 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
该文通过试验分析了抛光雾产生的机理和影响因素;并在试验的基础,优化选择了抛光工艺技术,有效地控制了抛光雾,取得较好的经济效益和社会效益。
【作 者】
:
陈浩
刘玉岭
【机 构】
:
单晶硅厂
【出 处】
:
第九届全国半导体集成电路、中国有色金属学会硅材料学术会议
【发表日期】
:
1995年期
【关键词】
:
硅片抛光
抛光工艺技术
优化选择
影响因素
试验分析
社会效益
经济效益
控制
基础
机理
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