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本文在考察了水对Sol －Gel 法制备PI/SiO2 复合薄膜结构与性能影响的基础上，分别在H2O:TEOS=4:1 （传统Sol-Gel ）及无外加水（原位同步）的情况下制得PI/SiO2 复合薄膜，以FTIR 及TEM 等手段对两种薄膜中SiO2 粒子的生成、生长过程中的结构形态，即复合薄膜的制备机理进行比较研究，在此基础上提出了PI/SiO2纳米复合薄膜的原位同步法制备机理。