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基于溶胶-凝胶(Sol-Gel)技术制备的SiO2减反膜以其成本低廉、易于工业化生产、结构可控、折射率可调、具有高激光损伤阈值等优点，在高功率激光领域、太阳能电池镀膜领域和装饰玻璃等多个领域均有广泛的应用前景.但Sol-Gel氧化硅具有较高的孔隙率，使其更容易吸附使用环境中的污染物，从而降低其光学性能和抗激光损伤特性，缩短使用寿命.本文以正硅酸乙酯为前驱体，氨水为催化剂制备单分散颗粒状SiO2溶胶，通过十六烷基三甲氧基硅烷(HTMS)对SiO2颗粒表面的修饰"钝化"SiO2颗粒，最终获得HTMS改性SiO2溶胶.然后采用浸渍提拉法在BK7玻璃基板表面制备HTMS改性氧化硅薄膜.利用傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、UV-Vis-NIR分光光度计、Film Wizard膜系设计软件和扫描电子显微镜(SEM)等表征手段对薄膜的光学性能、微结构性能、耐环境稳定性进行了研究.结果表明：经过HTMS改性后的薄膜具有高透过率和良好的耐环境稳定性，峰值透过率可达～99.7％，在90％RH湿度环境下经过两个月时间后，薄膜的透过率几乎不变，改性后薄膜的耐环境稳定性得到较大提高.