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用X射线光电子能谱(XPS)研究了射频磁控溅射法在玻璃基表面上制备的DyFeCo/AlN磁光记录薄膜的表面成分随溅射氩气压的变化关系。
XPS研究溅射氩气压对玻璃基DyFeCo/AlN磁光记录薄膜成分的影响
【摘 要】
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用X射线光电子能谱(XPS)研究了射频磁控溅射法在玻璃基表面上制备的DyFeCo/AlN磁光记录薄膜的表面成分随溅射氩气压的变化关系。
【机 构】
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武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室
【出 处】
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中国稀土学会第四届学术年会
【发表日期】
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2000年期
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