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金属基底的表面粗糙度对IBAD过渡层的织构和YBCO超导层的性能有重要影响，特别是IBAD-MgO的制备对基底的表面粗糙度已有明确指标.表面平整化的方法主要有：机械抛光，电抛光，化学机械抛光[1]和溶液沉积平整化(SDP)[2].其中溶液沉积平整化具有成本低，无毒副产物，稳定性好等优点.本文采用优化的SDP方法，即溶胶-溶液沉积平整化(SSDP)，由于溶胶粒径较大，可以实现快速平整化，再使用溶液进行精细平整化，进而提高平整化速率.经过Y2O3溶胶一次涂覆，表面粗糙度由原始3.73nm减小到1.01nm；再经过两次前驱体涂覆，表面粗糙度最终降低到0.36nm.图1分别为裸带和经过溶胶-溶液沉积后的AFM图.