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卤化电热蒸发（ＥＴＶ）－ＩＣＰ－ＡＥＳ是基于样品和含卤基体改进剂，在石墨炉内发生高温卤化反应和以ＩＣＰ－ＡＥＳ为检测的联用技术，具有高的进样效率，低的检出限和适宜于小体积进样，以及微量固体试样分析等优点。作者曾以ＰＴＦＥ为氟化剂成功地用于ＥＴＶ－ＩＣＰ－ＡＥＳ直接分析高纯稀土氧化物和石英粉末。该研究的目的在于利用悬浮体制样／氟化热蒸发（ＥＴＶ）－ＩＣＰ－ＡＥＳ，直接测定Ｓｉ＜，３＞Ｎ＜，４＞粉末中痕量杂质。在实验条件下，根据它们在石墨炉内生成氟化物的挥发性的差异，选择折衷条件，在利用选择挥发降低基体效应的同时，实现了Ｓｉ＜，３＞Ｎ＜，４＞粉末中痕量杂质Ｃｕ、Ｃｒ、Ａ１、Ｙ和Ｔｉ的测定。