【摘 要】
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研究金属磁记忆检测技术微观机理.利用Bitter粉纹法观察未经磁化受力程度不同的无取向硅钢片和20＃钢试件的磁畴结构,对比分析应力对磁畴的影响.试验表明:未受力或应力集中较小
【机 构】
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南昌航空工业学院无损检测技术教育部重点实验室,南昌,330063
【出 处】
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2006年全国无损检测学会电磁(涡流)专业委员会年会
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研究金属磁记忆检测技术微观机理.利用Bitter粉纹法观察未经磁化受力程度不同的无取向硅钢片和20＃钢试件的磁畴结构,对比分析应力对磁畴的影响.试验表明:未受力或应力集中较小时,晶粒内磁畴以片状畴为主,同一晶粒内畴壁相互平行,随着应力集中程度的增加,磁畴结构出现迷宫畴.且应力集中程度越大,迷宫畴个数越多,同时畴壁长度和间距发生改变.
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