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本文的研究对象是采用物理气相沉积法在硅片上制备的多种硅氧合物的光致发光响应。在制备镶嵌有纳米晶体硅的二氧化硅薄膜的基础上，使用倍频的钛宝石飞秒激光对样品进行了脉冲线泵浦测量了其受激自发辐射的光学增益系数，以及通过脉冲点泵浦测量了此样品的光学衰减系数，在泵浦强度为200mJ/cm2的情况下，测得其光学净增益为114cm2,光学衰减为137cm2,最后得到此样品实际的光学增益为251cm2。这一结果揭示了高荧光效率的多层膜样品可以较为容易的得到较高的荧光效率和光学增益，为今后研究硅基光源打下了实验基础。