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低压金刚石薄膜场发射特性研究
低压金刚石薄膜场发射特性研究
来源 :第八届全国固体薄膜学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:aa4578
【摘 要】
:
本文通过在金刚石薄膜表面蒸镀纳米量级金膜作为栅级的方式,在低于10V的电压下观察到金刚石薄膜的场发射,共发射电子的发散角度小于6°,接近于面发射.
【作 者】
:
元光
宋航
李树玮
蒋红
缪国庆
金亿鑫
【机 构】
:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所(吉林长春)
【出 处】
:
第八届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
:
2002年12期
【关键词】
:
金刚石薄膜
场发射特性
发散角度
发射阈值电压
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本文通过在金刚石薄膜表面蒸镀纳米量级金膜作为栅级的方式,在低于10V的电压下观察到金刚石薄膜的场发射,共发射电子的发散角度小于6°,接近于面发射.
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